HCL 系列為全金屬密封結構的電子束蒸發(fā)源，適用于超高真空（UHV）環(huán)境。提供 3 至 5 甚至更多坩堝配置，可實現(xiàn)最多 5 種以上材料的順序蒸發(fā)沉積。標準安裝方式為 12 英寸外徑 CF 法蘭，適用于大容量配置。對于 15cc 及以下坩堝容量，支持 10 英寸外徑 CF 法蘭安裝。
該系列標配自動坩堝定位系統(tǒng)（Auto Indexer）及完整的機械、電氣連接接口，適用于多材料高純沉積工藝需求，如光學鍍膜、半導體制程和科研實驗。
主要特點：
超高真空兼容（UHV Compatible）：金屬密封設計，基準極限壓力達 2 × 10?11 Torr
270° 電子束偏轉角：燈絲完全隱藏，有效避免顆粒短路
燈絲更換方便：專用對準工具確保更換時對準精度，無需復雜調整
永磁主束定位系統(tǒng)：使用永磁進行主束位置控制，電磁線圈用于精細掃描與微調
強力冷卻能力：高穩(wěn)定性冷卻結構，確保長時間運行
標準安裝法蘭尺寸：
| 坩堝容量 | 標準安裝法蘭 |
|---|---|
| ≤ 15cc | 10 英寸外徑 CF 法蘭 |
| > 15cc | 12 英寸外徑 CF 法蘭（默認） |
技術規(guī)格：
| 參數(shù) | 數(shù)值 |
|---|---|
| 最大功率 | 15 kW |
| 發(fā)射電壓 | -6 ~ -15 kV |
| 發(fā)射電流 | 0 ~ 1 A（連續(xù)可調） |
| 燈絲功率 | 700 W |
| 電子束偏轉 | 270° |
| 電子束光斑尺寸 | ≈ 0.25 英寸直徑 |
| 蒸發(fā)速率 | 1 克/分鐘（@10kW），36,000 ?/min（鋁@250mm距基材） |
| 冷卻水需求 | 3 gpm，25 psi 差壓 |
| 坩堝材質 | OFE 高純銅 |
| 烘烤溫度 | 230°C |
坩堝容量選項：
標準容量：7 cc、15 cc、25 cc、40 cc、75 cc
支持定制坩堝容量與結構（可根據(jù)項目需求定制）
