Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源
Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測校準(zhǔn)、二次離子質(zhì)譜和 MBE 離子注入。
性能
- 束流穩(wěn)定性：對于堿金屬源，使用發(fā)射電流控制時(shí)每小時(shí) ±1.0%，或在沒有 ECC 的情況下預(yù)熱后每小時(shí) ±10%。
- 能量穩(wěn)定性：±每小時(shí) 0.01%，±滿負(fù)荷時(shí)每 8 小時(shí) 0.02%。
運(yùn)營能力
- 快速電容光束或雙網(wǎng)格脈沖
- 偏轉(zhuǎn) / 光柵
- 槍式法拉第杯
